《Journal Of Physics D-applied Physics》创刊于1970年，国际标准简称：J PHYS D APPL PHYS，由IOP Publishing Ltd.出版，是物理与天体物理-物理应用兼具学术深度与实践导向的国际权威刊物。
- 出版周期：Weekly
- 出版语言：English
- 出版国家或地区：ENGLAND
期刊信息
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WOS期刊JCR分区
Q2
中科院期刊分区
3区
CiteScore指数
5.9
年发文量
1163
中文名称
应用物理学杂志
中国学者近期发文
Enhanced Goos-Hänchen shift at normal incidence using Tamm plasmon polariton
Author: Zhang, Shi-Yi; Ding, Yan-Jing; Geng, Zi-Ru; Wu, Li-Ting; Guo, Tian-Jing; Kang, Ming; Chen, Jing
Ultra-wide bandgap, piezoelectricity, and spin-orbit coupling in cluster-assembled monolayer
Author: Wang, Huilin; Zhou, Lixin; Wei, Yingjie; Guo, Yu; Su, Yan; Zhao, Jijun
Study of dark zone phenomenon of three-electrode dielectric barrier discharg
Author: Liu, Qiaojue; Guo, Zhanhe; Hu, Mengying; You, Mi; Chen, Yangyang; Wu, Shuqun
A miniaturized low-profile frequency selective rasorber with broadband absorption and dual-transmission respons
Author: Li, Wenxing; Jiang, Zhongshu; Zou, Ao; Yu, Yu; Wang, Jinke; Miao, Ling; Jiang, Jianjun
Signal-enhancement mechanisms of Al and Pb in kaolinite by discharge-assisted LIB
Author: Zhang, Yubo; Wang, Jiawei; Jin, Xuemei; Zhu, Huihui; Su, Xiaohui; Qiu, Rong; Zhou, Qiang; Gu, Zhouyu; Li, Ruoxi; Lü, Tao
Spin-polarized photocurrents in bilayer VS2: photogalvanic effect with magnetic and polarization light contro
Author: Luo, Bing; Huang, Hongwu; Li, Yaning; Xu, Zhonghui; Hou, Chunju
Nanoindentation insights into intrinsic fracture toughness anisotropy of SiC single crystals and implications for laser-guided fracture propagatio
Author: Fan, Zhiqiang; Zhang, Jiaxin; Chen, Shengqiang; Zhang, Pengsen; Feng, Yuezhong
Evaluation of alkali metal-decorated BeC monolayers as reversible hydrogen storage media by first-principles calculation
Author: Xing, Hanxin; Jia, Siya; Yong, Yongliang; Liu, Zhiyong; Guo, Wentao; Zhang, Shaofeng; Wang, Xinxin; Li, Xinli
Investigation of turn-off dv/dt controllability in ultrahigh-voltage SiC P-IGBT
Author: Wei, Wei; Tian, Xiaoli; Liu, Xinyu; Wang, Xinhua; Bai, Yun; Li, Xuan; Yang, Chengyue; Tang, Yidan; Mai, Ruixue; Wang, Kaikai; Li, Chengzhan
Femtosecond laser-induced fabrication and performance study of scattering protrusions on silicon dioxide surface
Author: Li, Chen; Xu, Jinwen
WOS期刊JCR分区
2025-2026年最新版
| 按JCI指标学科分区 | 收录子集 | 分区 | 排名 | 百分位 |
| 学科：PHYSICS, APPLIED | SCIE | Q2 | 86 / 191 |
55.2 |
| 学科：PHYSICS, APPLIED | SCIE | Q2 | 77 / 191 |
59.95 |
2024-2025年最新版
| 按JCI指标学科分区 | 收录子集 | 分区 | 排名 | 百分位 |
| 学科：PHYSICS, APPLIED | SCIE | Q2 | 71 / 187 |
62.3 |
| 学科：PHYSICS, APPLIED | SCIE | Q2 | 75 / 187 |
60.16 |
中科院期刊分区表
《新锐期刊分区表》（2026年3月发布）
| 大类学科 | 小类学科 | Top期刊 | 综述期刊 |
|
物理与天体物理
3区
|
PHYSICS, APPLIED
物理：应用
3区
|
否 | 否 |
期刊分区表（2025年3月升级版）
| 大类学科 | 小类学科 | Top期刊 | 综述期刊 |
|
物理与天体物理
3区
|
PHYSICS, APPLIED
物理：应用
3区
|
否 | 否 |
期刊分区表（2023年12月升级版）
| 大类学科 | 小类学科 | Top期刊 | 综述期刊 |
|
物理与天体物理
3区
|
PHYSICS, APPLIED
物理：应用
3区
|
否 | 否 |
期刊分区表（2022年12月升级版）
| 大类学科 | 小类学科 | Top期刊 | 综述期刊 |
|
物理与天体物理
3区
|
PHYSICS, APPLIED
物理：应用
3区
|
否 | 否 |
CiteScore（2026年6月最新版）
| CiteScore | SJR | SNIP | 学科 | 排名 | 百分位 |
| CiteScore：5.9 | SJR：0.591 | SNIP：0.953 |
大类：Physics and Astronomy
小类：Acoustics and Ultrasonics
Q1
|
8 / 54 |
86% |
|
大类：Physics and Astronomy
小类：Condensed Matter Physics
Q2
|
114 / 446 |
74% |
|||
|
大类：Physics and Astronomy
小类：Surfaces, Coatings and Films
Q2
|
40 / 141 |
71% |
|||
|
大类：Physics and Astronomy
小类：Electronic, Optical and Magnetic Materials
Q2
|
95 / 318 |
70% |
投稿提示
Journal Of Physics D-applied Physics是物理与天体物理的国际权威学术期刊，由IOP Publishing Ltd.出版发行，自1970年创刊以来，是发表物理-物理：应用研究成果的国际核心期刊，也是相关领域科研评价、成果认定与学术展示的重要载体，为全球科研人员提供了重要的学术交流平台。根据最新期刊引证报告数据，该刊2026年影响因子为3.2，CiteScore达5.9，综合学术指标居国际前列。在JCR分区中，期刊按JCI指标学科分区中：PHYSICS, APPLIED，PHYSICS, APPLIED等多个学科均位于Q2区；在中科院期刊分区表中属于物理与天体物理大类3区，期刊H指数高达172，学术影响力与行业认可度长期保持稳定。
Journal Of Physics D-applied Physics作为一本国际权威期刊，该刊2026年发文量1163篇，审稿周期约1.9个月，录用流程透明高效，同时被SCI、SCIE等多个国际权威数据库收录。期刊自引率控制在合理范围，近三年有预警记录，反映该刊的学术信誉可能受损，投稿该刊时请谨慎评估。